专利名称：曝光机光源装置专利类型：实用新型专利发明人：徐福润
申请号：CN201020504134.4申请日：20100825公开号：CN201765435U公开日：20110316
摘要：本实用新型曝光机光源装置，主要提供曝光机一种可以相对缩减设备体积，以及降低设备维护成本的光源装置；整体光源装置在一组壳罩内部装设有：一光源模块、一凸透镜、一第一反射镜，以及一第二反射镜；藉以大幅缩减整体光源装置的组成构件，减少光源于壳罩内部的反射次数，提高光源装置的出光效率；尤其，可配合执行连续曝光作业，并能够降低设备的维护成本。
申请人：景兴精密机械有限公司
地址：中国台湾桃园县芦竹乡南崁路二段270号
国籍：CN
代理机构：北京申翔知识产权代理有限公司
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