专利名称：真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶专利类型：发明专利发明人：甘国工
申请号：CN200910263570.9申请日：20091225公开号：CN102108489A公开日：20110629
摘要：本发明提供了一种真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，包括旋转靶管，位于旋转靶管内的带冷却水通道的磁钢组件，电源引入电极，装于旋转靶管至少一端上的旋转靶用端头，位于旋转靶用端头中的支撑轴承，其特征是旋转靶用端头中有与磁钢组件中冷却水通道相通的旋转空心轴，磁流体密封件套在旋转空心轴上并与旋转空心轴紧密贴合，旋转空心轴上有与旋转靶管连接的卡端。本发明旋转靶磁控溅射面积大，端头封水、封气效果好，冷却水通过旋转空心轴直接对磁流体密封件进行冷却，冷却效果好。
申请人：甘国工
地址：610100 四川省成都市龙泉驿区经济技术开发区星光中路103号东泰(成都)工业有限公司
国籍：CN
代理机构：成都立信专利事务所有限公司
代理人：江晓萍
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