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基板支撑单元,薄膜沉积设备及基板处理设备[发明专利]

2024-01-25 来源:伴沃教育
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:基板支撑单元,薄膜沉积设备及基板处理设备专利类型:发明专利

发明人:严基喆,韩政勋,金头汉,韩镕圭申请号:CN201910920881.1申请日:20190927公开号:CN111005007A公开日:20200414

摘要:一种用于在包括图案结构的基板上进行薄膜沉积的基板支撑单元以及包括该基板支撑单元的薄膜沉积设备,所述板支撑单元包括加热器;RF电极;连接到加热器的第一杆;连接到RF电极的第二杆;以及RF屏蔽,其与第二杆间隔开,设置成围绕第二杆,并沿第二杆的延伸方向延伸。

申请人:ASM IP私人控股有限公司

地址:荷兰阿尔梅勒

国籍:NL

代理机构:北京市柳沈律师事务所

代理人:王增强

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