专利名称：聚合物膜专利类型：发明专利发明人：查尔斯·理查德·哈特申请号：CN90108938.9申请日：19901107公开号：CN1051570A公开日：19910522
摘要：一种有底涂层的膜，包括一个聚合物膜基质层， 其粘合层包含一种共聚物，该共聚物含有共聚单体 (a)35-40％(摩尔)丙烯酸烷基酯，(b)35-40％(摩 尔)甲基丙烯酸烷基酯，(c)10-15％(摩尔)含有游离 羧基的单体，和(d)15-20％(摩尔)芳族磺酸和/或 其盐，这种有底涂层的膜可以用于，例如，生产上金薄 膜、绘图膜、照相胶片和磁卡。
申请人：帝国化学工业公司
地址：英国英格兰伦敦
国籍：GB
代理机构：中国专利代理有限公司
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