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单晶炉及单晶硅制备方法

来源:伴沃教育
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(21)申请号 CN201911335647.9 (22)申请日 2019.12.23

(71)申请人 西安奕斯伟硅片技术有限公司

地址 710065 陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室

(10)申请公布号 CN110983429A

(43)申请公布日 2020.04.10

(72)发明人 蒲以松;惠聪

(74)专利代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司

代理人 许静

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

单晶炉及单晶硅制备方法

(57)摘要

本发明提供了一种单晶炉及单晶硅制备方

法,属于半导体技术领域。单晶炉,包括:炉体;位于所述炉体内的石墨坩埚;位于所述石墨坩埚内的石英坩埚,所述石英坩埚用于盛装待熔化的多硅晶料;与所述炉体同轴、圆筒状的侧石墨加热器,套设在所述石墨坩埚外侧;设置在所述石墨坩埚底部的下石墨加热器;位于所述石英坩埚上方的导流筒;位于所述石英坩埚和所述导流筒之间的上加热器;位于所述导流筒的上端外

侧、且位于所述侧石墨加热器上方的上保温罩;设置在所述上保温罩上方的保温盖;设置在所述保温盖与所述炉体的内壁接触位置处的圆形环状石墨件。本发明能够提供均匀可控的热环境,加快传热效率,提高单晶硅棒的产率,保证所拉制单晶硅棒的质量。

法律状态

法律状态公告日2020-04-10 2020-04-10 2020-05-05

法律状态信息

公开 公开

实质审查的生效

法律状态

公开 公开

实质审查的生效

权利要求说明书

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说明书

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